Deep Moisture & Ultra Clean to idealne rozwiązanie dla cery mieszanej, z przetłuszczającą się strefą T i przesuszonymi policzkami.

Maska Głęboko Nawilżająca przywraca prawidłowy poziom nawodnienia w głębokich warstwach skóry. Zawarty w niej naturalny Sok z Aloesu podnosi wilgotność skóry i pobudza jej komórki do regeneracji. Kwas Hialuronowy utrzymuje prawidłowy poziom nawilżenia, przywraca skórze elastyczność i gładkość.

Maska Ultra Oczyszczająca oparta na Naturalnej Glince Kaolin, eliminuje toksyny z porów skóry, pozostawia je czyste i zwężone. Dzięki zawartości Aktywnego Węgla usuwa zanieczyszczenia, zapobiega powstawaniu zaskórników i reguluje wydzielanie sebum.

Sposób użycia: Maskę Głęboko Nawilżającą rozprowadź grubą warstwą na obszarach twarzy potrzebujących nawilżenia: na policzki,

szyję. Pozostaw do wchłonięcia. Jednocześnie w miejscach, gdzie skóra przetłuszcza się nadmiernie (strefa T) rozprowadź Maskę Ultra Oczyszczającą i odczekaj 10-15 minut do zaschnięcia warstewki. Zmyj letnią wodą i nałóż krem nawilżający.

Przebadano dermatologicznie. Przechowywać w temperaturze pokojowej. Najlepiej zużyć przed końcem / nr serii na zgrzewie.

Ingredients: Maska Głęboko Nawilżająca: Aqua, Aloe Barbadensis Leaf Juice, Hydrogenated Polydecene, Glyceryl Stearate, PPG-3 Benzyl Ether Myristate, Isononyl Isononanoate, Glycerin, PEG-100 Stearate, Persea Gra ssima (Avocado) Oil, Stearic Acid, Cyclopentasiloxane, Ce- tearyl Alcohol, Dimethicone, Sodium Hyaluronate, Sodium Polyacrylate, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Parfum, Geraniol, Hydroxyisohexyl 3-Cyclohexene Carboxaldehyde, Butylphenyl Methylpropional, Linalool, Citronellol, Limonene, Sodium Chloride, CI 19140, CI 42090 Maska Ultra Oczyszczająca: Aqua, Kaolin, Glycerin, Magnesium Alumi- num Silicate, Betaine, Methylpropanediol, Aloe Barbadensis Leaf Juice, Allantoin, Panthenol, Charcoal Powder, Eucalyptus Globulus Leaf Oil, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Citric Acid, Diazo- lidinyl Urea.